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Qualità Bis (dimetilamino) metilsilano (CAS n. 22705-33-5) Fabbrica
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Qualità Bis (dimetilamino) metilsilano (CAS n. 22705-33-5) Fabbrica
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Bis (dimetilamino) metilsilano (CAS n. 22705-33-5)

Specifiche
Evidenziare:

Aminosilani di elevata purezza

,

sintesi di polimeri bis (dimetilammino)metilsilano

,

22705-33-5 cas
Product Name:
Bis(dimetilammino)metilsilano
Appearance:
Liquido chiaro
MF:
C5H16N2Si
MW:
132.28
M.P:
<0°C
B.P.:
112 °C
Density:
0,798 g/mL a 20 °C(acceso)
Flash point:
-3°C
Etichette:

etiltrimetossisilano

metilsilano

silano
Attributi chiave
Marchio: SISO
Numero di modello: 22705-33-5
Luogo d'origine: Cina
Termini di pagamento: T/T
Descrizione di prodotto

1. Reagente di derivatizzazione con sililazione ad alta efficienza

Questo prodotto è un aminosilano bifunzionale ad alta attività contenente due gruppi attivi dimetilamminici. Può reagire rapidamente e completamente con gruppi di idrogeno attivi inclusi gruppi idrossilici, carbossilici e amminici in condizioni blande, ottenendo un'efficace derivatizzazione della sililazione. È ampiamente utilizzato nel pretrattamento dei campioni per l'analisi cromatografica e la modifica strutturale di prodotti chimici organici fini.

2. Precursore per la sintesi di polimeri siliconici di elevata purezza

Serve come precursore di elevata purezza per la sintesi di resine siliconiche funzionali e polimeri polisilossani. I doppi gruppi amminici reattivi consentono reazioni di idrolisi e policondensazione controllabili, regolando efficacemente il peso molecolare dei polimeri e la struttura di reticolazione e preparando materiali polimerici siliconici ad alta uniformità e a basso difetto.

3. Accoppiamento dell'interfaccia e modificatore di compatibilità

Con doppi siti funzionali reattivi, può costruire legami chimici stabili tra matrici polimeriche organiche e substrati inorganici come silice, fibra di vetro e riempitivi di ossidi metallici. Migliora significativamente la forza di legame interfacciale e la compatibilità di fase, riduce i vuoti e i difetti interfacciali e migliora le proprietà meccaniche complessive e la resistenza agli agenti atmosferici dei materiali compositi.

4. Passivazione della superficie del semiconduttore e protezione ultra pulita

Caratterizzato da un residuo di ioni metallici estremamente basso, un'elevata attività di reazione e prestazioni uniformi di formazione della pellicola, è adatto per il trattamento di passivazione superficiale di wafer semiconduttori e dispositivi elettronici di precisione. Può formare uno strato isolante idrofobico compatto e inerte sulle superfici dei materiali, isolando efficacemente umidità, ossigeno e microimpurità e migliorando la stabilità e la durata dei componenti elettronici.
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