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Bis (diméthylamine) méthylsilane (no CAS 22705-33-5)
Caractéristiques
Mettre en évidence:
Amino silanes de haute pureté
,Synthèse polymère bis ((diméthylamino) méthylsilane
,22705-33-5 cas
Product Name:
BIS(DIMÉTHYLAMINO)MÉTHYLSILANE
Appearance:
Liquide clair
MF:
C5H16N2Si
MW:
132.28
M.P:
<0°C
B.P.:
112 °C
Density:
0,798 g/mL à 20 °C(lit.)
Flash point:
-3°C
Attributs clés
Nom de la marque:
SISO
Numéro de modèle:
22705-33-5
Lieu d'origine:
Chine
Conditions de paiement:
T/T
Description de produit
1. Réactif de dérivatisation de silylation à haute efficacité
Ce produit est un aminosilane bifonctionnel de haute activité contenant deux groupes actifs diméthylamino. Il peut réagir rapidement et complètement avec les groupes hydrogène actif, notamment les groupes hydroxyle, carboxyle et amino dans des conditions douces, permettant ainsi une dérivatisation efficace par silylation. Il est largement utilisé dans le prétraitement des échantillons pour l’analyse chromatographique et la modification structurelle des produits chimiques organiques fins.
2. Précurseur pour la synthèse de polymères de silicone de haute pureté
Il sert de précurseur de haute pureté pour la synthèse de résines de silicone fonctionnelles et de polymères polysiloxanes. Les deux groupes amino réactifs permettent des réactions d'hydrolyse et de polycondensation contrôlables, régulant efficacement le poids moléculaire du polymère et la structure de réticulation, et préparant des matériaux polymères de silicone à haute uniformité et à faibles défauts.
3. Modificateur de couplage et de compatibilité d'interface
Grâce à ses deux sites fonctionnels réactifs, il peut créer des ponts chimiques stables entre les matrices polymères organiques et les substrats inorganiques tels que la silice, les fibres de verre et les charges d'oxyde métallique. Il améliore considérablement la force de liaison interfaciale et la compatibilité des phases, réduit les vides et les défauts interfaciaux et améliore les propriétés mécaniques globales et la résistance aux intempéries des matériaux composites.
4. Passivation de surface des semi-conducteurs et protection ultra-propre
Doté de très faibles résidus d'ions métalliques, d'une activité de réaction élevée et de performances filmogènes uniformes, il convient au traitement de passivation de surface des tranches semi-conductrices et des dispositifs électroniques de précision. Il peut former une couche isolante hydrophobe compacte et inerte sur les surfaces des matériaux, isolant efficacement l'humidité, l'oxygène et les micro-impuretés et améliorant la stabilité et la durée de vie des composants électroniques.
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