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Qualidade TRIS(DIMETILAMINO)SILANO (CAS NO. 15112-89-7) Fábrica
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Qualidade TRIS(DIMETILAMINO)SILANO (CAS NO. 15112-89-7) Fábrica
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TRIS(DIMETILAMINO)SILANO (CAS NO. 15112-89-7)

Especificações
Destacar:

Tris (dimetilamino) silano

,

tris (dimetilamino) silano C6H19N3Si

,

15112-89-7 líquido claro

Product Name:
Tris(dimetilamino)silano
Appearance:
Líquido transparente
MF:
C6H19N3Si
MW:
161,32
M.P:
<0°C
B.P:
°C 145
Density:
0,838g/cm3
Flash point:
25°C
Atributos-chave
Marca: SISO
Número do modelo: 15112-89-7
Local de Origem: China
Condições de pagamento: T/T
Descrição do produto

1Reagente de derivação de sililação de alta atividade

Este produto é um amino silano trifuncional de alta actividade com três grupos dimetilamino reativos numa única molécula.hidroxila fenólica e outros grupos de hidrogénio ativo em condições moderadas para completar a derivação rápida de sililaçãoÉ amplamente utilizado na análise cromatográfica, pré-tratamento de amostras, proteção da síntese orgânica e modificação química fina.

2Precursor para o Siloxane Polymer de alta pureza

Com três sítios activos hidrolíticos controlados, pode ser utilizado como precursor chave para a preparação de resinas de silicone e polímeros de polisiloxano de elevada ligação cruzada.A estrutura multifuncional permite uma hidrólise e uma policondensação uniformes e graduais, regulação eficaz da densidade da rede de ligação cruzada e estrutura molecular, e preparação de materiais de polímero de silicone de alta estabilidade e alta densidade.

3. Alta eficiência de acoplamento de interface e reforço de modificador

Os grupos funcionais multiativos podem formar ligações químicas de vários pontos entre a matriz de polímero orgânico e os enchimentos inorgânicos, como sílica, fibra de vidro e óxido metálico.Melhora significativamente a resistência da ligação interfacial e a compatibilidade de fase, resolve a descascagem e os defeitos da interface dos materiais compósitos e melhora muito as propriedades mecânicas, a resistência à água e a resistência ao envelhecimento dos sistemas compósitos.

4Semicondutores e materiais de passivação eletrónicos ultralimpos

Com impurezas iônicas metálicas ultra-baixas, elevada atividade de reação e excelente desempenho uniforme de formação de película, é especialmente aplicável à passivação de superfícies,Proteção do isolamento e tratamento hidrofóbico de wafers de semicondutores e componentes eletrónicos de precisãoForma uma película protetora densa e inerte para isolar a umidade, o oxigénio e os micropoluentes, melhorando a estabilidade do isolamento do dispositivo e a fiabilidade de serviço a longo prazo.
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