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Qualità TRIS(DIMETHILAMINO) SILANO (n. CAS 15112-89-7) Fabbrica
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Qualità TRIS(DIMETHILAMINO) SILANO (n. CAS 15112-89-7) Fabbrica
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TRIS(DIMETHILAMINO) SILANO (n. CAS 15112-89-7)

Specifiche
Evidenziare:

Tris (dimetilamino) silano liquido chiaro

,

tris ((dimetilamino) silano C6H19N3Si

,

15112-89-7

Product Name:
Tris(dimetilammino)silano
Appearance:
Liquido chiaro
MF:
C6H19N3Si
MW:
161.32
M.P:
<0°C
B.P:
°C 145
Density:
0,838 g/cm3
Flash point:
25°C
Attributi chiave
Marchio: SISO
Numero di modello: 15112-89-7
Luogo d'origine: Cina
Termini di pagamento: T/T
Descrizione di prodotto

1. Reagente di derivatizzazione con sililazione ad alta attività

Questo prodotto è un amminosilano trifunzionale ad alta attività con tre gruppi dimetilamminici reattivi su una singola molecola. Può reagire efficacemente con idrossile, carbossile, idrossile fenolico e altri gruppi di idrogeno attivo in condizioni blande per completare la derivatizzazione rapida della sililazione. È ampiamente utilizzato nel pretrattamento dei campioni di analisi cromatografiche, nella protezione della sintesi organica e nella modificazione chimica fine.

2. Precursore per polimero silossanico di elevata purezza

Con tre siti attivi idrolitici controllabili, può essere utilizzato come precursore chiave per la preparazione di resine siliconiche ad alta reticolazione e polimeri polisilossani. La struttura multifunzionale consente idrolisi e policondensazione uniformi e graduali, regolando efficacemente la densità della rete di reticolazione e la struttura molecolare e preparando materiali polimerici siliconici ad alta stabilità e alta densità.

3. Accoppiamento e interfaccia di interfaccia ad alta efficienza; Modificatore di rinforzo

I gruppi funzionali multiattivi possono formare legami chimici multipunto tra la matrice polimerica organica e i riempitivi inorganici come silice, fibra di vetro e ossido di metallo. Migliora significativamente la forza del legame interfacciale e la compatibilità di fase, risolve il peeling interfacciale e i difetti dei materiali compositi e migliora notevolmente le proprietà meccaniche, la resistenza all'acqua e la resistenza all'invecchiamento dei sistemi compositi.

4. Materiale di passivazione ultra-pulito per semiconduttori ed elettronici

Dotato di impurità a bassissimo contenuto di ioni metallici, elevata attività di reazione ed eccellenti prestazioni uniformi di formazione della pellicola, è particolarmente applicabile per la passivazione superficiale, la protezione dell'isolamento e il trattamento idrofobo di wafer semiconduttori e componenti elettronici di precisione. Forma una densa pellicola protettiva inerte per isolare umidità, ossigeno e microinquinanti, migliorando la stabilità dell'isolamento del dispositivo e l'affidabilità del servizio a lungo termine.
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