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Qualität Tris ((dimethylamino) silane (CAS-Nr. 15112-89-7) Fabrik
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Qualität Tris ((dimethylamino) silane (CAS-Nr. 15112-89-7) Fabrik
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Tris ((dimethylamino) silane (CAS-Nr. 15112-89-7)

Spezifikationen
Hervorheben:

Klares flüssiges Tris ((Dimethylamino) Silan

,

Tris ((Dimethylamino) Silan C6H19N3Si

,

15112-89-7
Product Name:
Tris(dimethylamino)silan
Appearance:
Klarflüssigkeit
MF:
C6H19N3Si
MW:
161,32
M.P:
<0°C
B.P:
°C 145
Density:
0,838 g/cm3
Flash point:
25°C
Umbauten:

Ethyltrimethoxysilan

Methylsilan

Silan
Wesentliche Eigenschaften
Markenname: SISO
Modellnummer: 15112-89-7
Herkunftsort: China
Zahlungsbedingungen: T/T
Produkt-Beschreibung

1. Hochaktives Silylierungs-Derivatisierungsreagenz

Bei diesem Produkt handelt es sich um ein hochaktives trifunktionelles Aminosilan mit drei reaktiven Dimethylaminogruppen auf einem einzigen Molekül. Es kann unter milden Bedingungen effizient mit Hydroxyl-, Carboxyl-, phenolischen Hydroxyl- und anderen aktiven Wasserstoffgruppen reagieren, um eine schnelle Silylierungsderivatisierung abzuschließen. Es wird häufig bei der Probenvorbehandlung in der chromatographischen Analyse, beim Schutz organischer Synthesen und bei der Feinchemikalienmodifikation eingesetzt.

2. Vorläufer für hochreines Siloxanpolymer

Mit drei kontrollierbaren hydrolytischen aktiven Zentren kann es als wichtiger Vorläufer für die Herstellung hochvernetzender Silikonharze und Polysiloxanpolymere verwendet werden. Die multifunktionale Struktur ermöglicht eine gleichmäßige und allmähliche Hydrolyse und Polykondensation, wodurch die Dichte des Vernetzungsnetzwerks und die Molekülstruktur wirksam reguliert werden und hochstabile und hochdichte Silikonpolymermaterialien hergestellt werden.

3. Hocheffiziente Schnittstellenkopplung &amp; Verstärkender Modifikator

Die multiaktiven funktionellen Gruppen können eine chemische Mehrpunktbindung zwischen der organischen Polymermatrix und anorganischen Füllstoffen wie Siliciumdioxid, Glasfasern und Metalloxiden bilden. Es verbessert die Grenzflächenbindungsfestigkeit und Phasenkompatibilität erheblich, behebt Ablösungen und Defekte an der Grenzfläche von Verbundwerkstoffen und verbessert die mechanischen Eigenschaften, die Wasserbeständigkeit und die Alterungsbeständigkeit von Verbundsystemen erheblich.

4. Hochreines Passivierungsmaterial für Halbleiter und Elektronik

Es zeichnet sich durch extrem niedrige Metallionenverunreinigungen, hohe Reaktionsaktivität und eine hervorragende, gleichmäßige Filmbildungsleistung aus und eignet sich besonders für die Oberflächenpassivierung, den Isolationsschutz und die hydrophobe Behandlung von Halbleiterwafern und elektronischen Präzisionskomponenten. Es bildet einen dichten, inerten Schutzfilm, der Feuchtigkeit, Sauerstoff und Mikroschadstoffe isoliert und so die Isolationsstabilität des Geräts und die langfristige Betriebszuverlässigkeit verbessert.
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