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क्लोरोडिमिथाइलफेनिलसिलेन (सीएएस संख्या 768-33-2)
विशेष विवरण
प्रमुखता देना:
क्लियर सिलिकॉन हैलाइड्स
,तरल क्लोरोडिमिथाइलफेनिलसिलेन
,कैस 768-33-2
Product Name:
क्लोरोडिमिथाइलफेनिलसिलेन
Appearance:
साफ़ तरल
MF:
C8H11ClSi
MW:
170.71
M.P:
<0°C
B.P:
194-198 डिग्री सेल्सियस
Density:
25 डिग्री सेल्सियस पर 1.017 ग्राम/एमएल
Flash point:
143 डिग्री फ़ारेनहाइट
प्रमुख गुण
ब्रांड नाम:
SISO
मॉडल नंबर:
768-33-2
उत्पत्ति का स्थान:
चीन
भुगतान की शर्तें:
टी/टी
उत्पाद का वर्णन
1उच्च-सक्रियता वाले सिलिलेशन कार्यात्मक अभिकर्मक
यह उत्पाद एक उच्च प्रतिक्रियाशीलता वाले क्लोरोसिलैन कार्यात्मक मोनोमर है जिसमें फेनिल और डाइमेथिल संरचना होती है। सक्रिय सिलिकॉन-क्लोरीन बंधन हाइड्रॉक्सिल, कार्बॉक्सिल,अमीनो और अन्य सक्रिय हाइड्रोजन समूह हल्के परिस्थितियों में पूर्ण सिलिलेशन संशोधन और समूह सुरक्षा के लिएइसका व्यापक रूप से ठीक कार्बनिक संश्लेषण और रासायनिक मध्यवर्ती व्युत्पन्न में उपयोग किया जाता है।
2फेनिल-परिवर्तित सिलिकॉन पॉलिमर पूर्ववर्ती
यह फेनिल-परिवर्तित सिलिकॉन तेल, सिलिकॉन राल और सिलिकॉन रबर के संश्लेषण के लिए एक प्रमुख मोनोमर के रूप में कार्य करता है।सिलिकॉन के आणविक श्रृंखला में कठोर फेनिल समूहों की शुरूआत से थर्मल स्थिरता में काफी सुधार होता है।पारंपरिक डाइमेथिल सिलिकॉन सामग्री का विकिरण प्रतिरोध, निम्न तापमान कठोरता और अपवर्तक सूचकांक, सिलिकॉन बहुलक के उच्च प्रदर्शन संशोधन को प्राप्त करता है।
3उच्च प्रदर्शन कोटिंग और चिपकने वाला संशोधक
इसका उपयोग मौसम प्रतिरोधी कोटिंग्स, उच्च तापमान प्रतिरोधी कोटिंग्स और विशेष चिपकने वालों के लिए एक कुशल कार्यात्मक संशोधक के रूप में किया जा सकता है।फेनिल सिलोक्सैन संरचना सतह कठोरता का अनुकूलन करती है, खरोंच प्रतिरोध, यूवी उम्र बढ़ने प्रतिरोध और कोटिंग फिल्मों की थर्मल ऑक्सीकरण स्थिरता, और चिपकने वाली प्रणालियों की बंधन शक्ति और उच्च तापमान स्थायित्व में सुधार करता है।
4इलेक्ट्रॉनिक और ऑप्टिकल कार्यात्मक सामग्री मध्यवर्ती
उच्च प्रकाश पारगम्यता, स्थिर dielectric गुणों और उत्कृष्ट थर्मल प्रतिरोध के साथ,यह ऑप्टिकल पारदर्शी सिलिकॉन सामग्री और इलेक्ट्रॉनिक इन्सुलेशन सामग्री के संश्लेषण पर लागू होता हैयह ऑप्टिकल फिल्मों के अपवर्तन सूचकांक को प्रभावी ढंग से समायोजित कर सकता है, इलेक्ट्रॉनिक सुरक्षात्मक कोटिंग्स के इन्सुलेशन और उच्च तापमान प्रतिरोध में सुधार कर सकता है,और उच्च अंत ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की तैयारी आवश्यकताओं को पूरा.
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